納米光觸媒分散機，光觸媒研磨分散機，納米二氧化鈦分散機，光觸媒超細分散機，納米分散機，光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱。 在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學腐蝕、無毒等優點，價格也適中，具有較高的性價比，因而市場上大多使用納米二氧化鈦作為主要原材料。

辣椒醬分散機GMD2000系列特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GMD在摩擦狀態下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機采用幾何機構的研磨定轉子，的表面處理和優質材料，可以滿足不同行業的多種需求。

【管線式小型分散機的簡介】 專為實驗室研發，模擬生產流程，為量產提供可靠的數據論證。該中試型型機器和大型量產機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數在量產化之后不要重新調整，而將機器型號升級過程中的風險降到Z低。

硅藻土分散機 ，的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是Z重要的。根據一些行業特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

導電漿料均質分散機的設備特點 GRS設備與傳統設備相比： 高效,節能 傳統設備需8小時的分散加工過程,GRS設備1小時左右完成,超細分散*,能耗極大降低； 高速,高品質

納米管線式三級分散機，具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質混合。高剪切分散分散機由定/轉子系統生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

光敏涂料分散機，對于涂料行業，傳統的涂料一般采用高速分散機進行分散，要求不高，主要起一個混合作用，但對于納米級涂料以及其他特殊涂料的分散就必須采用高品質分散設備進行分散，要保證物料的粒徑以及涂料均勻度，SGN高速剪切分散機可以滿足這種要求。

水煤管線式研磨分散機，水煤漿研磨分散機，水煤漿管線式高剪切研磨分散，SGN水煤漿研磨分散機結合了目前上*的膠體磨技術與管線式高速分散技術，設備轉速Z高可達14000rpm，是國產研磨機的4-5倍。