活性炭膠體磨研磨分散機

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研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

活性炭是一種具有多孔、比表面積較高的強吸附性顆粒物質，它對氣體分子物質和液體溶液中的小分子物質具有較強的吸附作用；在活性炭氣體吸附過程中，氣體分子可以穿過活性炭的微孔結構，部分氣體分子附著于活性炭的活性位點，滯留在活性位點上；活性炭活性位點被氣體分子占據后將失去吸附能力；每種氣體分子與活性炭活性位點的結合能力不同，根據分子結合能力不同，可實現活性炭對混合氣體的分離。

對活性炭改性可以提高活性炭活性位點數量、增大活性炭的孔徑，增強活性炭對硫化氫的吸附能力。目前對活性炭改性研究主要集中在酸改性、堿改性和鐵鹽改性等，少數研究了銅鹽對活性炭改性吸附低濃度硫化氫，主要針對活性炭對低濃度硫化氫的物理吸附作用，其對硫化氫的吸附量較小，不能適用于工業廢氣高濃度硫化氫的吸附。

XMD2000模塊化設計主要由兩層分散頭構成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉子齒列高速運轉，產生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩定性更好，滿足生產時對于粒徑的要求。

XMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，XM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；XMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

設備其它參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考：

活性炭膠體磨研磨分散機