混懸劑膠體磨

該懸浮液工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能，普通膠體磨轉(zhuǎn)速3000rpm，研磨出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，極大限制了新型阿莫西林混懸劑的推廣，上海依肯高剪切膠體磨GM2000系列轉(zhuǎn)速高達9000rpm，是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 經(jīng)過GM2000膠體磨研磨后的混懸液固體顆粒粒徑80%小于10UM，分布范圍極窄。 

SID膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：

一、轉(zhuǎn)速和剪切速率：

SID膠體磨，可選擇德國機械密封，轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

普通膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440 S-1

通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

二、膠體磨頭和間距：

SID膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，GM膠體模塊，GM膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。

間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

普通膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差

三、機械密封：

SID膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉(zhuǎn)

普通膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

四、清洗：

SID膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機器設(shè)計無si角，立式結(jié)構(gòu)符合流體原理，清洗更簡便

普通膠體磨，臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養(yǎng)復(fù)雜，

通常情況，需要拆卸機器進行清洗

GM2000系列醫(yī)藥的特點：

①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

高剪切膠體磨主要用途：高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達到國外同類產(chǎn)品的ding尖。

混懸劑膠體磨設(shè)備參數(shù)表：