熱門(mén)搜索: GMSD2000石墨烯納米復(fù)合隔熱涂料研磨分散機(jī) GRS2000農(nóng)藥混懸劑高速分散乳化機(jī) GRS2000納米氧化硅水分散液分散機(jī) GMSD2000納米材料增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī) GMSD2000水性環(huán)氧樹(shù)脂防水涂料研磨分散機(jī) GRS2000環(huán)氧樹(shù)脂改性苯丙乳液高速分散機(jī) GRS2000陽(yáng)離子丙烯酸乳液高速乳化機(jī) GRS2000水性羥基丙烯酸樹(shù)脂分散體高速乳化機(jī) GRS2000聚乳酸微球高速乳化機(jī) GRS2000聚苯乙烯微球高速乳化機(jī) GRS2000環(huán)氧塑料高速乳化機(jī) GRS2000有機(jī)硅樹(shù)脂膠黏劑乳化機(jī) GMSD2000氫氧化鋁合成橡膠研磨分散機(jī) GMSD2000導(dǎo)電型石墨烯研磨分散機(jī) GRS2000高分子礦物纖維高速分散機(jī) GRS2000石墨電弧法碳納米管高速分散機(jī)

產(chǎn)品展示/ Product display

  • XMD2000顆粒調(diào)剖劑管線式分散機(jī)

    顆粒調(diào)剖劑管線式分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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    2023-11-13

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  • XMD2000絕熱涂料超高速研磨分散機(jī)

    絕熱涂料超高速研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XRS2000釩酸鉍高剪切研磨分散機(jī)

    釩酸鉍高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī)

    聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000納米光觸媒二氧化鈦分散機(jī)

    納米光觸媒二氧化鈦分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000氣硅光油高剪切研磨分散機(jī)

    氣硅光油高剪切研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)

    阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數(shù)次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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