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  • XMD氧化鈷濕法分散研磨機

    氧化鈷濕法分散研磨機需要加入液體介質中分散應用,氧化鈷+液體介質+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進行研磨分散,解決團聚問題,更均勻的分散,并進一步細化粒徑,一般分散后粒徑為D90小于1微米,分散效果好,效率高。

    更新時間

    2023-11-12

    廠商性質

    生產廠家

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